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可摘局部义齿支架打磨抛光的要点不正确的是( )

来源: 考试宝典    发布:2023-04-16  [手机版]    

导言】考试宝典发布"可摘局部义齿支架打磨抛光的要点不正确的是( )"考试试题下载及答案,更多口腔修复(副高)副主任医师高级卫生专业技术资格考试的考试试题下载及答案在线题库请访问考试宝典卫生高级职称考试(副高)频道。

[单选题]可摘局部义齿支架打磨抛光的要点不正确的是( )

A. 由粗到细
B. 先打磨再喷砂压力适当
C. 注意降温
D. 打磨头的旋转方向应与卡环、支托走向一致
E. 压力适当


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[单选题]牙本质反应性变化不包括下列哪项

A. 继发性牙本质
B. 修复性牙本质
C. 牙本质死区
D. 透明牙本质
E. 罩牙本质

正确答案 :E


[单选题]固定修复体戴用一段时间后出现咬合疼痛,最不可能的原因是

A. 创伤性牙周炎
B. 根尖炎
C. 根管侧穿
D. 病理性根折
E. 牙髓充血

正确答案 :E


[单选题]有关复合固定桥的说法错误的是( )

A. 容易使中间基牙受伤
B. 尖形牙弓前牙复合固定桥的杠杆力较大
C. 中间基牙的支持力应较强
D. 中间基牙的位置与固定桥杠杆力的大小无关
E. 容易沿远端基牙连线产生转动

正确答案 :D



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